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Construção |
Construção do Sensor O plano superior do chip é
coberto por uma camada de isolante SIO2 , na qual foi
feito um buraco metalizado com um diâmetro de aproximadamente 20um.
A parte inferior do chip é totalmente metalizada.
Fig.02 Circuito Equivalente do Sensor A Fig.03 mostra um segundo arranjo, que é a composição de dois sensores conectados em série, mas com polaridade invertida, que possuem a vantagem de prover uma resistência que e independente da direção da corrente. Isto é um oposição ao arranjo de sensor-único da Fig.04, que para grandes correntes e temperaturas acima de 100 C, dá uma resistência que varia ligeiramente com a direção da corrente. Esta figura também é uma seção através do cristal que mostra o princípio da difusão da resistência.
Normalmente, sensores
de temperatura de sílicio tem um limite de temperatura de aproximadamente
150 C, determinado pelas propriedade do semicondutor intrínseco
de sílicio. Se, entretanto, o dispositivo com sensor-único
é pré-fabricado com seu contato de metal positivo, o onset
do comportamento do semicondutor intrínsico é aumentado para
uma temperatura mais elevada. Isto origina-se do fato que uma tensão
positiva no contato de ouro severamente depleta a concentração
de lacunas no na parte positiva da camada de difusão superior, e
então efetivamente isola lacunas espontâneamente geradas dentro
do corpo do cristal devido a sua natureza intrínseca. Como um resultado,
as lacunas são impedidas na contribuição da corrente
total, e consequentemente pela alteração da resistência.
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